国内光刻胶现状，光刻胶国内厂家排名
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|光刻胶又称光刻胶，主要由敏化剂（光引发剂）、光敏树脂（聚合剂）、溶剂、添加剂等组成。光刻胶利用光化学反应，通过曝光、显影等光刻工艺，将掩模上必要的精细图案转移到加工基板上，是微细加工技术中重要的电子化学品。光刻胶在半导体及其他电子器件的制造过程中发挥着重要作用，因此是我国重点发展的电子工业主要材料之一。接下来我们简单总结一下国内外光刻胶企业。如有错误或遗漏，敬请广大读者朋友提出意见、指正和补充，我们将不胜感激。
海外主要光刻胶生产商
1、JSRJSR（原日本合成橡胶株式会社）成立于1957年。该公司的产品包括G/I 系列、KrF、ArF（干/湿）和EUV 光刻胶。全球第一的光刻胶制造商。目前，JSR光刻胶全球市场份额约为13%，半导体光刻胶市场份额约为28%，位居全球第一。 JSR于1979年进入半导体材料业务，开始销售其首款光刻胶产品CIR。2004年，首次使用ArF浸没式光刻成功实现了32nm分辨率，导致了重大技术变革，并于2006年与IBM合作，我们使用ArF 浸没式光刻成功实现了30 nm 或更小的线宽。 2011年，JSR和SEMATECH联合开发了15nm工艺的化学放大EUV光刻胶。2016年，JSR和IMEC成立了EUV光刻胶制造合资企业EUV光刻胶制造和资格中心（EUV RMQC）。2017年，JSR和IMEC成立了EUV光刻胶制造合资公司。三星创投。英特尔投资等投资了EUV光刻胶先驱Inpria。 Inpria 生产的含有氧化锡的EUV 光刻胶具有良好的灵敏度，可将EUV 吸收效率提高4 倍，并实现更简单的制造工艺和更大的工艺窗口。 2021年9月17日，JSR宣布将以5.14亿美元收购美国光刻胶制造商Inpria，进一步扩大光刻胶市场份额。
2、东京恩卡株式会社（TOK）东京恩卡株式会社成立于1936年，生产橡胶类负性光刻胶、G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶，我们是一家世界领先的半导体光刻胶制造商，生产EUV 光刻胶和其他产品。 1968年，东京安佳开发出第一个环化橡胶光刻胶“MOR-81”，1972年开发出日本第一个重氮醌光刻胶OFPR-2，进入2080年代G To线/i线光刻胶业务-To TSMR产品。 Tokyo Eika 于2006 年开始开发ArF 浸没式光刻胶所需的技术。
3、信越化学信越化学成立于1926年，前身为信越氮肥株式会社，是日本最大的化学公司。信越化学株式会社于1998年将光刻胶产品商业化，主要光刻胶产品包括I/g线光刻胶、KRF光刻胶、ArF（干法和湿法）、EUV光刻胶。信越化学的光刻胶业务隶属于电子及功能材料事业部，发挥材料制造商的优势，进行从原料聚合物的合成到复合的一体化生产。信越化学的KrF和ArF光刻胶用于蚀刻半导体电路的感光材料，厚膜i-line光刻胶广泛用于薄膜磁头和MEMS应用。据日经新闻报道，2020年10月，信越化学投资约300亿日元（约合人民币17.43亿元），将半导体工厂重要材料光刻胶产能提高20%。将提供先进技术。芯片生产扩大供应。据悉，信越化学将在台湾云林市和日本直江津市建设新工厂，台湾云林工厂将于2021年正式进入量产，为台湾客户增加50台产能。预计%。届时，信越化学计划在台湾开始生产适用于尖端极紫外（EUV）光刻技术的光刻胶，此前该光刻胶仅在日本生产。信越化学预计此举将满足台积电等客户不断增长的需求。此外，信越化学直江津工厂的新设备将于2022 年2 月开始运行，产能将增加20%。
4、Fujifilm 富士胶片成立于1934年，最初专业生产感光材料产品。在胶片时代，富士胶片在相机胶片、光学质量以及相关打印材料方面长期处于行业领先地位。基于在胶片业务中培育的光学和化学优势，富士胶片将业务板块拓展为医疗材料解决方案、文档解决方案、影像解决方案三大业务九个细分领域，并实现了业务稳定增长。富士胶片的光刻胶业务是医疗材料解决方案高性能材料业务的一部分。目前，富士胶片的光刻胶产品涵盖负性光刻胶、i-line、KrF、ArF、电子束光刻胶等。《日刊工业新闻》透露，富士胶片已正式启动EUV光刻胶业务，目标是到2024年占领全球10%的市场份额。
5、Donshin Semicon 东信半导体成立于1967年，是韩国最早开发PVC和橡胶类发泡剂的公司，在发泡剂领域取得成功后，依靠的是国内电子工业基础和产业支持。我一直在做。电子材料领域政策迅速涌现。东信半导体于1983年凭借EMC项目进入半导体材料领域，开始开发半导体用光刻胶，并于1990年成为继美国、德国之后世界上第四个掌握这项技术的国家。日本是一个科技型国家。 1995年Hoan工厂竣工后，东信半导体开始引领国内半导体材料生产，此前半导体材料完全依赖进口。 1999年，东进半导体在台湾设立当地法人代表，开始拓展海外市场。法安工厂二期工程于2000年竣工，随后台湾工厂（2001年）、北京工厂（2004年）、启东工厂（2006年）、成都工厂（2009年）、合肥工厂（2010年）相继建成。目前是京东方湿式电化学的主要供应商。东信半导体目前拥有多个产品系列，可分为光刻胶、湿式电子化学品、显示材�**ü饪探骸⑾杂凹痢⒛チ稀CD液晶、OLED发光材料等，以及下游应用的平板、面板显示、集成电路、触摸屏等领域。据韩国媒体报道，2021年5月25日，东信半导体在位于华城市巴兰的工厂举行仪式，庆祝其光刻胶工厂新大楼竣工，该工厂投资200亿韩元用于制造新型半导体。京畿道，举行产品交付仪式。它已完全投入运行。首席执行官Jun-hhyuk 表示，该公司计划在这里生产EUV 光刻胶。
6、住友化学住友化学成立于1913年，是日本最大的综合化学公司，主要业务包括石油化工、能源和功能材料、信息电子化学、健康和农业相关业务、健康业务等。属于信息电子化学，主要包括i-line、KrF、ArF、EUV光刻胶等。住友化学于2021年8月31日宣布，鉴于5G市场需求持续增长，决定扩大半导体光刻胶产能。住友化学宣布将在其大阪工厂（大阪市此花区）扩建ArF（浸没式）和EUV（极紫外）光刻胶生产线，并将扩建全资子公司东友精细化学株式会社（Higashiyu Fine Chemical Co. Ltd.）位于Ikyama的子公司。该工厂正在建设一座新的高频浸没式平板相机光刻生产设施。住友化学表示，新生产线计划于2023年�**肽昕荚擞筅婀こЪ苹�2024年�**肽昕荚擞Ｐ碌暮こЫ鶤rF（氟化氩）光刻胶。 ArF光刻胶是一种用于在半导体晶圆上印刷电子电路的尖端材料，住友化学一直在其大阪工厂生产这种材料。未来，该公司计划在韩国的一家工厂将日本国内原材料混合、混合并运输。住友化学解释称，“ArF光刻胶在韩国不受出口限制”，但一些人认为，由于日本半导体材料制造商最近在韩国进行了一系列投资，因此不能否认出口限制的影响。
国内主要光刻胶生产商
4、徐州博康徐州博康成立于2010年，专注于光刻到最终产品的胶原材料自主研发和生产，包括单体、特种树脂、光酸剂、最终产品光刻胶，实现自主可控国产化。是目前国内唯一一家能够规模化生产中高档光刻胶单体材料的企业。目前，徐州博康的产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品。目前，徐州博康已开发出各类电子束光刻胶、ArF干式光刻胶、KrF正负性光刻胶、I线正负性光刻胶、GHI超厚负性胶等10多个高端光刻胶产品系列。已经成功了。涵盖IC集成电路制造、IC后端封装、化合物半导体、分立器件、电子书等市场应用。 2012年，徐州弘安单体产品通过日本东京合成橡胶JSR认证，2013年开始向JSRTOK三星等日本、韩国光刻胶企业供应单体。 2021年6月，徐州博康年产1100吨光刻材料和10000吨电子溶剂的新工厂开始运营。该项目达产后，年产值将达到20亿元，也将成为国内首个可规模化生产中高档光刻胶的生产基地。
5、晶瑞电材晶瑞电材成立于2001年，是一家集研发、生产、销售于一体的新型微电子材料公司，主要产品包括超高纯试剂、光刻胶、功能材料、锂电池等。很快。等广泛应用于半导体、平板显示、LED等泛半导体领域以及锂电池、太阳能发电等新能源行业。 1976年，苏州初级中学光刻胶研发室成立，这就是晶瑞电材的起源，是国内最早研发光刻胶的团队之一。 2001年，晶瑞电材正式成立，2011年收购苏州瑞虹部分股权，2017年，晶瑞电材上市，苏州瑞虹成为全资子公司，2018年，晶瑞电材一线成立，可批量生产光刻胶，产能100吨/年。目前，公司光刻胶产品由子公司苏州瑞虹生产，该公司已生产大尺寸光刻胶近30年，是国内光刻胶领域的先行者。晶锐电子的UV负性光刻胶、广谱正性光刻胶等高端产品以及部分G线产品已大规模供应市场数十年，I线光刻胶广泛应用于中芯国际并供应给其他公司。近年来，高端KrF（248）光刻胶已完成中试，建成中试示范线，目前处于客户测试阶段；ArF高端光刻胶的研发工作也已启动。行业现状正在带来发展机会、设备和人才的投资，其他方面的投资也在增加。此外，晶瑞电材还启动并完成了国家重点科技计划02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目。
6、艾达感光艾达感光成立于1996年，是一家专业生产高档感光化学材料的国家高新技术企业，光刻胶产品主要包括UV正性光刻胶、UV负性光刻胶、稀释剂、含显影剂。液体、剥离液和其他辅助化学品主要用于平板显示器、发光二极管和集成电路等领域。 2021年9月27日，惠达观光股份有限公司公告称，拟投资6亿元在珠海经济技术开发区建设感光干膜、平板显示光刻胶、半导体光刻胶产品等项目。
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