鼎泰高科取得真空镀膜系统及镀膜方法专利，能实现高硬、高致密涂层沉积

据金融行业消息，2023年12月11日，国家知识产权局公告称，广东鼎泰高新科技有限公司获得了名为“真空镀膜系统及镀膜方法”的项目。许可证公布号为CN114411099B，申请日期为2021年12月。

该专利摘要表明，本发明公开了一种等离子体真空镀膜系统和镀膜方法，包括镀膜机和阴极装置。镀膜机提供阳极，阴极装置设有靶台、靶材、腔体辅助阳极、靶材外部的流路，第一脉冲电源的正极电连接于腔体辅助阳极。阳极；直流电弧电源、第二脉冲电源、双极脉冲等离子体振荡器；第一脉冲电源的负极与靶材电连接；直流电弧电源的正极电连接直流电弧电源的负极与靶材电连接，第二脉冲电源的正极与阳极电连接，第二脉冲电源的负极与靶材电连接。工件形成阴极。这是一种可以产生水平振荡等离子体，使双极脉冲等离子体振动的装置。本发明可以实现电弧等离子体的水平和垂直三维冲击，提高电离效率，避免熔滴产生，沉积高硬度、致密的无熔滴涂层。

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